片状氧化铝抛光粉具有以下特点：
1、片状结构：片状氧化铝的晶体形状通常为六边形平片，具有较大的径厚比。这种结构使其在抛光过程中能够以“平行排列”的方式与被抛光材料表面接触，减少表面损伤，提高抛光后的表面平滑度。
2、高硬度和强磨削力：片状氧化铝保留了氧化铝的高硬度特性，磨削力强，抛光效率高，能够快速去除材料表面缺陷。
3、良好的分散性和悬浮性：片状氧化铝在抛光液中具有良好的分散性和悬浮性，不易沉降，确保抛光过程中磨料分布均匀，提高抛光质量。
4、低表面损伤风险：由于片状颗粒的平面结构，其在抛光时与工件表面的接触面积较大，压力分布均匀，减少了局部应力集中，降低了划痕和微裂纹的产生风险。
5、优异的表面光洁度：使用片状氧化铝抛光粉可获得高光泽度和低表面粗糙度的抛光效果，适用于对表面质量要求严苛的光学元件、半导体晶圆等领域。
6、化学稳定性高：片状氧化铝化学性质稳定，耐酸碱腐蚀，不与抛光液发生反应，适用于多种抛光体系，且不会引入杂质污染。
7、粒度可控，适应性强：通过控制生产工艺，可制备不同粒径的片状氧化铝抛光粉，满足从粗抛到精抛的不同工艺需求，粒径分布窄，抛光效率更高。
